WATNEY G. In- and out of circuit vaporizers., Anesthesia Equipment Resources ASE 2007. RU 51340 U1, 10.02.2006. US 5957129 A, 28.09.1999, реферат. ДЖ. ЭДВАРД МОРГАН-МЛ. и др., Клиническая анестезиология. - М.: «БИНОМ», 1998, стр.53-60. Руководство по анестезиологии//Под ред. ЭЙТКЕНХЕДА А.Р. и др. - М.: Медицина, 1999, стр.362-365. СИДОРОВВ.А. Комбинированная анестезия с низким потоком газонаркотической смеси у детей. Автореф. дис.к.м.н. - М.: 2000, стр.1-23.
Имя заявителя:
Берлин Александр Зиновьевич (RU), Якубович Борис Самуилович (RU)
Изобретатели:
Берлин Александр Зиновьевич (RU) Буров Николай Евгеньевич (RU) Молчанов Игорь Владимирович (RU) Сидоров Вячеслав Александрович (RU) Юшкин Александр Васильевич (RU)
Патентообладатели:
Берлин Александр Зиновьевич (RU) Якубович Борис Самуилович (RU)
Реферат
Изобретение относится к медицине, а именно к анестезиологии, и может быть использовано при необходимости проведения ингаляционного наркоза. Для этого регулирование вдыхаемой концентрации анестетика осуществляют посредством испарителя низкого сопротивления, стабилизированного по расходу газовой смеси. При этом данный испаритель устанавливают как вне дыхательного контура на линии свежего газотока, так и внутри дыхательного контура, направляя в этом случае часть газовой смеси, равную разнице между минутной вентиляцией и свежим газотоком, мимо испарителя через байпас. Поток газа через байпас регулируют пропорционально разнице между текущим и заданным значениями вдыхаемой концентрации. Во время индукции или углубления наркоза верхний предел вдыхаемой концентрации определяют как произведение установленной отметки шкалы испарителя на отношение минутной вентиляции к свежему газотоку. Правило определения вдыхаемой концентрации анестетика при индукции и поддержании наркоза указывают на панели управления вдыхаемой концентрации. Изобретение позволяет обеспечить эффективное управление глубиной анестезии за счет быстрого регулирования концентрации анестетика во вдыхаемой смеси на любых этапах ингаляционной анестезии по полузакрытому контуру. 4 з.п. ф-лы, 2 ил.
Поиск патентов
Получить полное описание патента