US 2078933 А, 04.05.1937. RU 2234375 С2, 20.08.2004. RU 96120371 A, 10.12.1998. JP 2001058321 A, 06.03.2001. RU 2126320 C1, 20.02.1999.
Имя заявителя:
Основин Евгений Владимирович (RU)
Изобретатели:
Основин Евгений Владимирович (RU) Солдатов Владимир Прокопьевич (RU)
Патентообладатели:
Основин Евгений Владимирович (RU)
Реферат
Способ включает загрузку материала в рабочую камеру, воздействие и разрушение его рабочей средой. В качестве рабочей среды используют газ гелий с высоким коэффициентом диффузии. Газ подают в камеру под давлением в пределах 5-250 атм, выдерживают его до полного насыщения всех пор резинотехнических изделий, по крайней мере поверхностных. Затем резко снижают давление газа в рабочей камере. Откачивают остатки гелия в свободные дополнительные баллоны. После чего в рабочую камеру подают газ-ингибитор. После откачки рабочей среды ее очищают и подают на повторное использование. Причем давление рабочей среды в камере и время выдержки коррелируется с толщиной резинотехнических изделий: чем больше толщина изделий, тем выше давление рабочей среды и больше время выдержки. Устройство содержит камеру с загрузочным и разгрузочным узлами и трубопроводом для выпуска рабочей среды. Рабочая камера выполнена герметичной и компрессионной. Устройство дополнительно снабжено контрольно-измерительными приборами, компрессионным насосом, баллонами рабочего газа гелия и газа-ингибитора. Устройство снабжено также отдельными баллонами для сбора гелия с давлением ниже атмосферного и атмосферным, связанными трубопроводами с вентилями с баллоном рабочего газа. Все баллоны соединены трубопроводами посредством вентилей с рабочей камерой. В баллонах с гелием и ингибитором создают рабочее давление в пределах от 5 до 250 атм. Изобретения обеспечивают повышение эффективности процесса измельчения резинотехнических изделий различной толщины, повышение производительности, снижение энергетических затрат, снижение степени загрязнения атмосферы и возможность повторного использования продуктов переработки. 2 н. и 3 з.п. ф-лы, 1 ил.
Поиск патентов
Получить полное описание патента