На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
СПОСОБ ИЗВЛЕЧЕНИЯ ВАНАДИЯ ИЗ ВАНАДИЙСОДЕРЖАЩИХ МАТЕРИАЛОВ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | |
Номер публикации патента: 2080400 | |
Редакция МПК: | 6 | Основные коды МПК: | C22B034/22 C22B003/02 | Аналоги изобретения: | Тезисы докладов III Всесоюзного совещания в г. Качканаре, ч. 1, Свердловск, 1979, с. 64. Технологическая инструкция ТИ-115-Ф-10-90 Чусовского металлургического завода, 1990, рис. 2. |
Имя заявителя: | Акционерное общество открытого типа "Ванадий-Тулачермет" | Изобретатели: | Борисенко В.П. Волков В.С. Рабинович Е.М. Мерзляков Н.Е. Кузьмичев С.Е. Ситнов А.Г. Фролов А.Т. Тартаковский И.М. Борисенко Б.В. | Патентообладатели: | Акционерное общество открытого типа "Ванадий-Тулачермет" |
Реферат | |
Изобретение относится к области металлургии, в частности к способу извлечения ванадия из ванадийсодержащих материалов, включающем слабокислотное выщелачивание при pH 2,5 - 3,0 и температуре 60 - 70oC. Сущность: перед слабокислотным выщелачиванием исходный материал, взятый в виде пульпы, подвергают стадийной обработке кислотой для снижения pH пульпы при поддержании ее плотности 1150 - 1400 г/л и времени 10 - 20 мин на каждой стадии, при этом устанавливают на первой стадии pH 4, - 5,0 и температуру 25 - 40oC, на второй стадии pH 3,9 - 4,5 и температуру 40 - 48oC, на третьей - pH 3,4 - 3,9 и температуру 48 - 52oC, на четвертой - pH 3,1 -3,4 и температуру 52 - 59oC. В качестве исходного материала используют окисленные обоженные с соединениями щелочноземельных металлов ванадиевые шлаки. Устройство для осуществления указанного выше способа включает реакторы с мешалкой, систему подачи кислоты и систему нагревания пульпы, при этом система подачи кислоты выполнена из трубопровода, клапана, распределительного коллектора, жестко подсоединенного к трубопроводу после клапана и кислотопроводов, жестко присоединенных к коллектору и уходящих на различную глубину реакторов, при этом суммарное проходное сечение кислотопроводов не превышает площади сечения трубопровода подачи кислоты до клапана, коллектор выполнен с сопротивлениями, установленными в промежутках между кислотопроводами для равномерной подачи кислоты по кислопроводам и по всей высоте реактора. Кислотопроводы выполнены из кислотостойкого материала. 2 с. и 2 з.п. ф-лы, 1 ил., 1 табл.
|