|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИОННО - ПЛАЗМЕННОГО РАСПЫЛЕНИЯ МАТЕРИАЛОВ В ВАКУУМЕ |  |
Номер публикации патента: 2075539 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | C23C014/36 | | Аналоги изобретения: | Проспект фирмы LEYBOLD-HERAEUS N 12.352.07, с.7, 1987. Авторское свидетельство СССР N 1030423, кл. C 23 C 15/00, 1983. |
| Имя заявителя: | Парфененок Михаил Антонович (UA) | | Изобретатели: | Левченко Георгий Тимофеевич[UA]
Маишев Юрий Петрович[RU]
Парфененок Михаил Антонович[UA]
Исаев Олег Юрьевич[UA] | | Патентообладатели: | Парфененок Михаил Антонович (UA) |
Реферат | |
Сущность изобретения состоит в усовершенствовании устройства для ионно-плазменного распыления материалов, в котором полюсные наконечники выполнены с образованием охватывающих друг друга зазоров. В охваченном зазоре установлен катод - мишень, а в охватывающем - анод. Полюсные наконечники могут быть выполнены с чередующимися зазорами. Выполнение устройства указанным образом позволяет повысить степень ионизации рабочего газа в зоне напыления вследствие образования направленного ионного потока рабочего газа из прианодного слоя, где в зазоре между полюсными наконечниками скрещены электрическое и магнитное поле. 1 з.п. ф-лы, 1 ил.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента