|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ НАПЫЛЕНИЯ РЕЛЬЕФНЫХ ПОДЛОЖЕК |  |
Номер публикации патента: 2229182 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | H01L021/28 C23C014/40 | | Аналоги изобретения: | ROSSNAGEL S.М.. Directional and ionized physical vapour deposition for microelectronics application. J. Vac. Sci. Technol. 1998, V.16В, №5, р.2598. RU 2058428 С1, 20.04.1996. RU 2046840 С1, 27.10.1995. US 3956093 А, 11.05.1976. |
| Имя заявителя: | Московский государственный университет леса (RU) | | Изобретатели: | Полуэктов Н.П. (RU)
Давыдов В.Ф. (RU)
Камышов И.А. (RU)
Харченко Т.А. (RU) | | Патентообладатели: | Московский государственный университет леса (RU) |
Реферат | |
Использование: микроэлектроника, плазменная технология производства изделий микроэлектроники, в процессе металлизации структур с субмикронными размерами элементов. Сущность изобретения: при зажигании в вакуумной камере с инертным газом СВЧ-ЭЦР разряда ионы этих газов выбивают из металлической мишени атомы металла.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента