Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


УСТАНОВКА ДЛЯ КОМПЛЕКСНОЙ ИОННО - ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ

Номер публикации патента: 2453629

Вид документа: C2 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2010123948/02 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: C23C014/30    
Аналоги изобретения: RU 84019 U1, 27.06.2009. RU 2074905 C1, 10.03.1997. KR 100307074 B1, 17.08.2001. US 550725 A, 02.04.1996. 

Имя заявителя: Российская Федерация, в лице Министерства промышленности и торговли Российской Федерации (RU) 
Изобретатели: Григорьев Сергей Николаевич (RU)
Горовой Александр Петрович (RU)
Кабанов Александр Викторович (RU)
Вислагузов Алексей Анатольевич (RU)
Саблев Леонид Павлович (UA)
Андреев Анатолий Афанасьевич (UA) 
Патентообладатели: Российская Федерация, в лице Министерства промышленности и торговли Российской Федерации (RU) 

Реферат


Изобретение относится к вакуумной ионно-плазменной технологии и может быть использовано, в частности, для обработки длинномерного инструмента (протяжки и др.). Установка содержит вакуумную камеру, электродуговой источник плазмы в виде расположенного в вакуумной камере, по меньшей мере, одного длинномерного электрода, держатель изделий с изолированным токоподводом, эмиттер электронов, выполненный в виде эмиссионной камеры, внутри которой установлен длинномерный линейный катод эмиттера электронов, сообщающейся с вакуумной камерой через перфорированную перегородку, отверстия которой расположены вдоль продольной оси упомянутого линейного катода. Источник питания вакуумно-дугового разряда выполнен с возможностью подключения отрицательного полюса к упомянутому линейному катоду или электроду, а положительного - к эмиссионной камере или вакуумной камере. Источник питания эмиттера электронов выполнен с возможностью подключения отрицательного полюса к эмиссионной камере, а положительного - к держателю изделий или к электроду. Технический результат: обеспечение равномерного прогрева длинномерных изделий посредством бомбардировки изделий ускоренным электронным потоком. 1 з.п. ф-лы, 2 ил.

Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"