На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
СПОСОБ ХИМИЧЕСКОЙ ОЧИСТКИ ОТ ОТЛОЖЕНИЙ ПОВЕРХНОСТЕЙ ТЕПЛОЭНЕРГЕТИЧЕСКОГО ОБОРУДОВАНИЯ | |
Номер публикации патента: 2166718 | |
Редакция МПК: | 7 | Основные коды МПК: | F28G009/00 B08B003/08 C23G003/04 | Аналоги изобретения: | Методические указания по эксплуатационной химической очистке котлов энергоблоков сверхкритического давления. РД 34.37.403-91. СПО ОРГРЭС, МОСКВА, 1991, с.8,17,19,21,23. SU 911120 A1, 07.03.1982. SU 1802867 A3, 15.03.1993. RU 2152576 C1, 27.04.1999. SU 1366858 A1, 15.01.1988. WO 92/15834 A1, 17.09.1992. |
Имя заявителя: | Московский энергетический институт (технический университет) | Изобретатели: | Рыженков В.А. Куршаков А.В. Кулов В.Е. Петрова Т.И. | Патентообладатели: | Московский энергетический институт (технический университет) |
Реферат | |
Изобретение может быть использовано при проведении химических очисток любого теплоэнергетического оборудования ТЭС и АЭС, включая все пароводяные тракты котлов, парогенераторов, турбин, конденсаторов, регенеративных подогревателей, конденсатно-питательного тракта, а также водогрейных котлов, теплосетей, бройлеров, систем индивидуального теплоснабжения промышленных и жилых зданий. Способ включает определение количественного и качественного состава отложений, времени полной очистки tn для выбранной моющей композиции, подачу ее в тракты, выдержку и удаление ее с растворенными отложениями и последующую водную отмывку с нейтрализацией. При этом моющую композицию выдерживают в течение времени t = (0,4 - 0,6)tn, а после нейтрализации в тракты подают водную эмульсию поверхностно-активного вещества, обеспечивают ее выдержку, контролируя при этом концентрацию поверхностно-активного вещества, и при снижении ее до установившегося значения удаляют водную эмульсию поверхностно-активного вещества. Такое выполнение обеспечивает полную очистку поверхностей при уменьшении времени на очистку. 1 з.п. ф-лы.
|