Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


ДЕТЕКТОР НЕЙТРОНОВ

Номер публикации патента: 2386983

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2009103188/28 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: G01T001/24    
Аналоги изобретения: RU 2178602 С2, 20.01.2002. RU 2231808 C1, 27.06.2004. EP 0777277 A1, 04.06.1997. US 6043495 A, 28.03.2000. 

Имя заявителя: ФГУП "Научно-исследовательский институт физических проблем им. Ф.В. Лукина" (RU) 
Изобретатели: Васенков Александр Анатольевич (RU)
Ильичев Эдуард Анатольевич (RU)
Кочержинский Игорь Константинович (RU)
Полторацкий Эдуард Алексеевич (RU)
Рычков Геннадий Сергеевич (RU)
Гнеденко Валерий Герасимович (RU)
Федоренко Станислав Николаевич (RU) 
Патентообладатели: ФГУП "Научно-исследовательский институт физических проблем им. Ф.В. Лукина" (RU) 

Реферат


Изобретение относится к твердотельным детекторам нейтронов. В твердотельный интегральный однокристальный детектор нейтронов, содержащий полупроводниковую подложку с омическим контактом к ее тыльной стороне и расположенные последовательно друг на друге на ее лицевой стороне следующие слои: изотипный подложке полупроводниковый слой, полупроводниковый высокоомный слой, полупроводниковый слой противоположного подложке типа проводимости и расположенный на последнем контактный слой, причем два последних слоя выполнены в виде гальванически не связанных областей, дополнительно вводят микроструктурированный слой из алмаза С*(В), легированный бором до вырождения, расположенный на упомянутом выше контактном слое, и второй контактный слой, расположенный на лицевой стороне упомянутого алмазного микроструктурированного слоя. Однокристальная интегральная конструкция позволяет провести в алмазной пленке, легированной бором до вырождения, преобразование потока нейтронов в поток -частиц и преобразование последних в поток вторичных электронов, а затем - уже в высокоомном приемно-преобразовательном слое Si p-i-n детекторной структуры - в неравновесные электронно-дырочные пары с последующим их считыванием в виде тока во внешнюю цепь. 3 ил.

Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"