На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ ПАРАМЕТРОВ СТРУКТУРЫ "МЕТАЛЛИЧЕСКАЯ ПЛЕНКА - ПОЛУПРОВОДНИКОВАЯ ИЛИ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКАЯ ПОДЛОЖКА" | |
Номер публикации патента: 2326368 | |
Редакция МПК: | 7 | Основные коды МПК: | G01N022/00 G01B015/02 | Аналоги изобретения: | RU 2256168 С2, 10.07.2005. RU 2193184 C2, 20.11.2002. SU 1753379 A1, 07.08.1992. US 6989675 A, 24.01.2006. US 6366096 A, 22.04.2002. |
Имя заявителя: | ГОУ ВПО "Саратовский государственный университет имени Н.Г. Чернышевского" (RU) | Изобретатели: | Усанов Дмитрий Александрович (RU) Скрипаль Александр Владимирович (RU) Абрамов Антон Валерьевич (RU) Боголюбов Антон Сергеевич (RU) | Патентообладатели: | ГОУ ВПО "Саратовский государственный университет имени Н.Г. Чернышевского" (RU) |
Реферат | |
Изобретение относится к области технологии тонких пленок и многослойных наноструктур. Технический результат: расширение диапазона измеряемых толщин и класса исследуемых материалов и увеличение чувствительности. Сущность: облучают структуру типа «металлическая пленка - полупроводниковая или диэлектрическая подложка» СВЧ излучением с помощью волноведущей системы.
|