|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ОПТИЧЕСКИХ ЭЛЕМЕНТОВ |  |
Номер публикации патента: 2082186 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | G02B001/10 | | Аналоги изобретения: | 1.Jelinsky P., Jelinsky S. Low reflectance EUV materials: a comparative study. Appl. Optics 1987, vol.26, N 4, p.613 - 615. 2. Патент США N 4340276, кл. G 02 B 1/10, 1982. 3. Кудинов В.В. и др. Оптика плазменных покрытий.- М.: Наука, 1981, с.19 - 22, 56 - 58, 78 - 80. |
| Имя заявителя: | Акционерная фирма Особое конструкторское бюро "Аалам" (KG) | | Изобретатели: | Самсонов Михаил Александрович[KG]
Молдосанов Камиль Абдикеримович[KG]
Ким Лилия Станиславовна[KG] | | Патентообладатели: | Акционерная фирма Особое конструкторское бюро "Аалам" (KG) |
Реферат | |
Использование: изготовление оптических противоотражательных элементов, в частности при создании космической бортовой аппаратуры. Сущность изобретения: на подложке плазмоструйным напылением создают структурированный слой, для чего напыление осуществляют частицами диаметром 100-150 мкм с температурой, равной 0,8-1,2 среднеарифметического температур плавления и кипения напыляемого материала и скоростью частиц 10-30 м/с, а на полученный первый слой после выдержки на воздухе в течение не менее 24-25 час напыляют в вакууме магнетронным распылением второй слой в виде частичек с характерным размером 0,1-0,2 мкм при давлении в камере (3-5)·10-4 мм.рт.ст., температуре подложки 150-200oC, плотности тока на мишени 19-20 А/м2 при ускоряющем градиенте напряжения 4-6 кВ/м. 1 з.п. ф-лы, 3 ил., 1 табл.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента