Изобретение относится к области изготовления матриц световозвращающих элементов. Способ изготовления подложки включает получение подложки, имеющей первую поверхность с расположенными на ней формирующими элементами, геометрия которых соответствует геометрии неискаженных оптических элементов в неискаженной матрице, и контролируемую обработку локализованного участка на первой поверхности подложки в достаточной степени для искажения формирующих элементов в месте, подвергнутом воздействию, включающем локализованный участок и окружающем его. Указанное место, подвергнутое воздействию, представляет собой участок, включающий локализованный участок и окружающий его. Формирующие элементы искажают в результате контролируемой обработки на локализованном участке, изменение формирующих элементов не является одинаковым и варьируется в зависимости от расстояния до локализованного участка, и двугранный угол по меньшей мере одного из формирующих элементов не равен 90°. Технический результат - увеличение расхождения световозвращающего материала. 5 н. и 32 з.п. ф-лы, 8 ил.
Поиск патентов
Получить полное описание патента