|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МАСОК |  |
Номер публикации патента: 2064689 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | G03F007/26 | | Аналоги изобретения: | Валиев К.А. Физика субмиронной литографии.- М.:Наука, ГРФМЛ, 1993, с. 528. |
| Имя заявителя: | Научно-исследовательский институт физической оптики и оптики лазеров, информационных оптических систем - Головной институт ВНЦ "Государственный оптический институт им.С.И.Вавилова" | | Изобретатели: | Дымшиц Ю.И.
Погорелый П.А. | | Патентообладатели: | Научно-исследовательский институт физической оптики и оптики лазеров, информационных оптических систем - Головной институт ВНЦ "Государственный оптический институт им.С.И.Вавилова" |
Реферат | |
Использование: в области технологии микроэлектронных устройств. Сущность изобретения: способ включает известные операции облучения пленки резистивного материала потоками излучения или частиц и последующего травления. На подложку наносят пленку резистивного материала и перед облучением ее растягивают, а после облучения, перед травлением, растяжение уменьшают или снимают. Перед облучением на пленку может быть нанесен слой эластичного резиста, например, лэнгмюровская пленка. Слой резиста может быть нанесен в виде пространственно разделенных островков. Благодаря сжатию пленки при снятии растяжения размеры рисунка и толщины линий оказываются меньше, чем в исходном изображении, отпадает необходимость в использовании сложных и дорогостоящих оптических и оптико-электронных проекционных и фокусирующих систем с предельными параметрами, что упрощает способ. 3 з.п.ф-лы, 1 ил.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента