Федеральное государственное научное учреждение "Научно-исследовательский институт ядерной физики" (RU)
Изобретатели:
Рябчиков Александр Ильич (RU) Рябчиков Игорь Александрович (RU) Степанов Игорь Борисович (RU) Еремин Станислав Евгеньевич (RU) Сивин Денис Олегович (RU)
Патентообладатели:
Федеральное государственное научное учреждение "Научно-исследовательский институт ядерной физики" (RU)
Реферат
Изобретение относится к плазменным технологиям нанесения пленочных покрытий и предназначено для очистки плазменного потока дуговых испарителей от микрокапельной фракции. Устройство содержит корпус 1, установленную в нем жалюзийную систему вложенных коаксиальных электродов 4, перекрывающих апертуру вакуумно-дугового испарителя, электрически соединенных между собой последовательно и встречно и подключенных к источнику тока и к положительному выводу источника напряжения, вторым выводом подключенного к аноду вакуумно-дугового испарителя, и выполненных в виде изогнутых и соединенных по своей длине полых трубок, подключенных к системе подачи охлаждающего агента. После жалюзийной системы электродов 4 установлена, по меньшей мере, одна электромагнитная катушка. Электроды жалюзийной системы 4 выполнены в форме поверхности второго порядка. Корпус 1 снабжен рубашкой охлаждения 2. Перед жалюзийной системой электродов 4 соосно с ней расположен рассекающий элемент 5, установленный на охлаждаемом полом держателе 6, закрепленном на корпусе 1 и перекрывающем зазоры, образованные изгибами трубок, при этом рассекающий элемент 5 соединен с рубашкой охлаждения 2 корпуса 1 и выполнен в виде полусферы или усеченного конуса и содержит источник магнитного поля. Технический результат: повышение производительности, уменьшение эксплуатационных расходов и уменьшение габаритов установки. 7 з.п. ф-лы, 1 табл., 4 ил.
Поиск патентов
Получить полное описание патента