|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| ИСТОЧНИК ИОНОВ ПАРОВ МЕТАЛЛОВ |  |
Номер публикации патента: 1745080 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | H01J027/04 H01J027/22 | | Аналоги изобретения: | Никитинский В.А. и др. Источник ионов металлов. Сб. Тезисы докладов I-й Всесоюзной конференции "Модификация свойств конструкционных материалов пучками заряженных частиц". Томск, 1988, с.53-55. |
| Имя заявителя: | Рубежанский филиал Днепропетровского химико-технологического института им.Ф.Э.Дзержинского | | Изобретатели: | Журавлев Б.И.
Богатырев О.А.
Потемкин Г.В. | | Патентообладатели: | Журавлев Борис Иванович |
Реферат | |
Изобретение относится к области технической физики и может быть использовано для вакуумно-плазменной обработки материалов. Целью изобретения является повышение концентрации ионов металла в рабочем потоке плазмы и увеличение ресурса работы источника. Поставленная цель достигается тем, что стержень с наконечником установлен на расстоянии l = (1 - 3)d, где d - диаметр катодного отверстия. При этом обращенная к катоду поверхность наконечника выполнена в форме части сферы, центр которой расположен на оси катодного отверстия и радиус которой не превышает диаметра d катодного отверстия. Между полым катодом 1 и анодом 3 зажигается разряд. Зажигание разряда сопровождается появлением катодной плазмы в полом катоде, анодной плазмы в аноде и сгустком плотной плазмы в контрагирующем отверстии 2. При подаче отрицательного потенциала на стержень 4 ионы анодной плазмы бомбардируют наконечник 6, интенсивно распыляя его металлическую поверхность, обращенную к катоду 1. Из плотной плазмы, генерируемой в контрагирующем отверстии 2, ионы металлов вместе с ионами сопутствующего газа проходят через полый катод и попадают в поле электродов 8, 9, где формируются в поток и ускоряются до требуемых энергий. 1 з.п. ф-лы, 1 ил.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента