|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПОТОКА ЗАРЯЖЕННЫХ ЧАСТИЦ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ |  |
Номер публикации патента: 1762732 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | H05H001/24 H01J027/06 | | Аналоги изобретения: | W.R.Baker et al.Xn Proccedings of the Simposium on Ion Sourscesand Formation of Ion Beam.Brook haven National Loboratory, Upton, N.Y., 1971, p.145. |
| Имя заявителя: | Сибирский институт земного магнетизма ионосферы и распространения радиоволн СО АН СССР | | Изобретатели: | Коротеев В.И.
Файнштейн В.Г. | | Патентообладатели: | Институт солнечно-земной физики СО РАН |
Реферат | |
Использование: техника получения и применения квазинейтральных потоков заряженных частиц. Сущность изобретения: способ включает подачу газа в пространство, ионизацию его электронами до образования плазмы, наложение на плазму электрического поля и выделение с его помощью потока ионов, нейтрализацию последнего электронами. Причем положительно заряженные источники поля размещают внутри плазмы, а отрицательно заряженные так, чтобы они охватывали плазменное пространство и эмиттировали электроны вдоль силовых линий поля. Регистрируют положение внешней границы плазмы и изменяют площадь поверхности положительно заряженных источников поля пропорционально площади поверхности плазменного пространства, причем отношение площадей указанных поверхностей выбирают в пределах 10-2- 10-4 Устройство для осуществления способа содержит газоразрядную камеру с размещенным внутри нее анодом, подключенную к отрицательному выводу источника напряжения, систему напуска рабочего газа, источник электронов в виде формирующей сетки, подключенной своими выводами к отдельному источнику для накаливания, причем один из выводов подключен также к отрицательному выводу источника напряжения. 2 с.п. ф-лы, 3 ил.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента