|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| Установка для генерирования ионного пучка большого сечения |  |
Номер публикации патента: 2003196 |  |
| Имя заявителя: | Научно-производственное предприятие "НОВАТЕХ" | | Изобретатели: | Саблев Леонид Павлович (н/п)
Андреев Анатолий Афанасьевич (н/п)
Григорьев Сергей Николаевич (н/п) | | Патентообладатели: | Научно-производственное предприятие "НОВАТЕХ" |
Реферат | |
Использование: для комплексной вакуумноплазменной обработки инструмента, деталей машин и иных изделий. Сущность изобретения катод установки для генерирования ионного пучка выполнен в виде интегрально-холодного катода вакуумнодугового разряда Между анодом и катодом установлена непроницаемая для ионов, но проницаемая для электронов перегородка, разделяющая разрядную полость камеры на анодную и катодную части.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента