|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ УПРАВЛЕНИЯ ПРОСТРАНСТВЕННЫМ РАСПРЕДЕЛЕНИЕМ ПЛОТНОСТИ ПЛАЗМЫ В МИКРОВОЛНОВОМ ИСТОЧНИКЕ ПЛАЗМЫ С ЭЛЕКТРОННО - ЦИКЛОТРОННЫМ РЕЗОНАНСОМ |  |
Номер публикации патента: 2152663 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | H01J037/32 | | Аналоги изобретения: | EP 0275965 A1, 19.01.1988. RU 2106716 C1, 10.03.1998. RU 2082284 C1, 20.06.1997. EP 0279895 A2, 31.08.1988. EP 0286132 A2, 12.10.1988. WO 92/21136 A1, 26.11.1992. |
| Имя заявителя: | Яфаров Равиль Кяшшафович | | Изобретатели: | Кудряшов С.А.
Яфаров Р.К. | | Патентообладатели: | Яфаров Равиль Кяшшафович |
Реферат | |
Изобретение относится к области плазменных технологий и может быть использовано для вакуумно-плазменной обработки материалов в микроэлектронике. Техническим результатом является увеличение диапазона управления пространственным распределением плотности плазмы при электронно-циклотронном резонансе (ЭЦР). Для достижения данного технического результата в микроволновом источнике плазмы с ЭЦР возбуждают в круглом волноводе бегущую электромагнитную волну двух или более типов с одинаковыми азимутальными числами, например Н11 и Е11. На область плазмообразования накладывают продольное постоянное магнитное поле с напряженностью, соответствующей ЭЦР. Управление пространственным распределением плотности плазмы осуществляют путем изменения разности фаз между этими типами волн. 1 ил.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента