На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»

Вернуться к списку

УСТРОЙСТВО ПРОЕКЦИОННОЙ ЭЛЕКТРОННО - ЛУЧЕВОЙ ЛИТОГРАФИИ

Номер публикации патента: 2183040

Вид документа:  C1  Страна публикации:  RU  Рег. номер заявки:  2001106964/09		Получить полное описание патента

Реферат

Изобретение относится к области электронно-лучевой обработки объектов. Техническим результатом является повышение качества нанесения рисунка и упрощение технологического процесса проекционной электронно-лучевой литографии за счет того, что алмазная пленка является многоразовой, устойчивой к действию воздуха, позволяет снимать большие плотности тока с поверхности и обладает малыми энергией и разбросом энергий электронов вторичной эмиссии, что способствует уменьшению хроматических аберраций в системе. Устройство состоит из источника излучения, генерирующего электроны, столика с маскированной мембраной, выполненной в виде избирательно активированной алмазной пленки, ускоряющего электрода, систем электронной оптики и коррекции изображения, столика с образцом с нанесенным на последний слоем резиста. Система расположена в вакуумированной камере. Столики крепления алмазной мембраны и образца могут быть снабжены системами юстировки и перемещения. Ускоряющий электрод, выполненный в виде сетки, может двигаться в своей плоскости. Источник излучения может быть выполнен в виде источника электронов или источника ультрафиолетового излучения. Алмазная пленка может быть нанесена на подложку из материала, прозрачного для генерирующего электроны излучения. 3 з.п.ф-лы, 1 ил.

Вернуться к списку