|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ РЕЛЬЕФА В ДИЭЛЕКТРИЧЕСКОЙ ПОДЛОЖКЕ |  |
Номер публикации патента: 2054747 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | H01L021/312 | | Аналоги изобретения: | 1. Пресс Ф.П. Фотолитографические методы в технологии полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. М.: Энергия, 1973, с.49-50. 2. Мокеев О.К., Романов А.С. Химическая обработка и фотолитография в производстве полупроводниковых приборов и интегральных схем. М.: Высшая школа, 1986, с.246. |
| Имя заявителя: | Омский научно-исследовательский институт приборостроения | | Изобретатели: | Столетов И.С.
Корж И.А.
Дорохина Г.С. | | Патентообладатели: | Омский научно-исследовательский институт приборостроения |
Реферат | |
Использование: в микроэлектронике для получения рельефа в диэлектрических и пьезоэлектрических подложках при изготовлении волноводов, микромеханических приборов, кварцевых резонаторов и т.п. Сущность изобретения: способ включает нанесение на подложку металлической пленки и формирование конфигурации защитной маски, травление подложки и удаление защитной маски.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента