Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ КРЕМНИЙ НА ИЗОЛЯТОРЕ СТРУКТУР

Номер публикации патента: 2090952

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 95116551 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L021/84    
Аналоги изобретения: 1. Зарубежная электронная техника, N 15, 1978, с.42. 2. Микроэлектроника. Т.23, вып.6, 1994, с.55. 3. Горяинов С.А. Диэлектрическая изоляция элементов интегральных схем. - М.: Сов.радио, 1975, с.39-42. 

Имя заявителя: Хаустов Владимир Анатольевич 
Изобретатели: Хаустов Владимир Анатольевич 
Патентообладатели: Хаустов Владимир Анатольевич 

Реферат


Использование: в технологии интегральных микросхем, формируемых на основе кремний на изоляторе (КНИ) структур. Сущность изобретения: нелитографическими методами на поверхности кремниевой пластины создается маска. Рисунком маски является совокупность отверстий произвольной формы с размером менее микрона, отстоящих друг от друга на расстоянии не превышающем микрона. Травлением через маску с таким рисунком в кремниевой пластине формируют колодцы. Стенки колодцев маскируют нитридом кремния. Затем окисляют кремний пластины. Окисел кремния растет со дна колодцев и смыкается в сплошной слой, отделяющий монокристаллическую пленку кремния с отверстиями от кремниевой пластины. На монокристаллической пленке кремния с отверстиями осуществляют эпитаксию кремния и в результате получают КНИ структуру с гладкой поверхностью кремниевого слоя. Способ позволяет повысить производительность процесса изготовления КНИ - структур. 6 ил.


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"