|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ ИЗ ФОТОРЕЗИСТА |  |
Номер публикации патента: 2136077 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | H01L021/312 | | Аналоги изобретения: | RU 2094903 C1, 27.10.97. SU 1329498 A1, 23.10.90. US 5532192 A, 02.07.96. EP 0789389 A2, 13.08.97. |
| Имя заявителя: | Воронежская государственная технологическая академия | | Изобретатели: | Абрамов Г.В.
Битюков В.К.
Володин Р.А.
Попов Г.В. | | Патентообладатели: | Воронежская государственная технологическая академия |
Реферат | |
Использование: микроэлектроника. Способ получения покрытия из фоторезиста заключается в нанесении дозы фоторезиста на подложки и формировании слоя путем вращения подложки. При формировании слоя на пластине-эталоне после 3-5 оборотов вращения анализируемый участок пластины освещают пучком параллельных монохроматичных лучей, фиксируют время между максимумами интенсивности отраженного света от пластины-эталона, причем при нанесении фоторезиста на рабочую пластину время между максимумами интенсивности отраженного света поддерживают, изменяя угловую скорость пропорционально отношению соответствующих значений времени между максимумами интенсивности отраженного света на рабочей пластине и на пластине-эталоне. Техническим результатом изобретения является повышение воспроизводимости получаемого слоя. 1 ил., 1 табл.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента