|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МАСКИ ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ТОНКИХ СЛОЕВ В МИКРОСТРУКТУРАХ |  |
Номер публикации патента: 2209488 |  |
| Редакция МПК: | 7 | | Основные коды МПК: | H01L021/308 | | Аналоги изобретения: | ЧЕРНЫЙ Б.И., НОВОЖЕНЮК Л.И., Свободные маски в технологии электронной техники // Зарубежная электронная техника. - М., 1981, с.3-40. US 3951701 А, 20.04.1976. US 3887421 А, 03.06.1975. US 3713922 А, 30.01.1973. |
| Имя заявителя: | Открытое акционерное общество Арзамасское научно-производственное предприятие "Темп-Авиа" | | Изобретатели: | Былинкин С.Ф.
Миронов С.Г. | | Патентообладатели: | Открытое акционерное общество Арзамасское научно-производственное предприятие "Темп-Авиа" |
Реферат | |
Использование: в микроэлектронике для формирования элементов микроструктур. Сущность изобретения: в качестве материала для маски, изготавливаемой методом фотолитографии, берется монокристаллический кремний, который травится анизотропно, причем сторону маски, прилегающую к напыляемой поверхности обрабатываемого кристалла, травят одновременно с этой поверхностью.
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента