На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
СПОСОБ КОНТРОЛЯ МОМЕНТА ОКОНЧАНИЯ ТРАВЛЕНИЯ В ПЛАЗМЕ ВЧ - И СВЧ - РАЗРЯДА В ТЕХНОЛОГИИ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | |
Номер публикации патента: 2248645 | |
Редакция МПК: | 7 | Основные коды МПК: | H01L021/66 | Аналоги изобретения: | US 5989928 А, 23.11.1999. RU 2091905 С1, 27.09.1997. GB 2351349 А, 27.12.2000. WO 97/02593 А1, 23.01.1997. |
Имя заявителя: | Физико-технологический институт РАН (RU) | Изобретатели: | Валиев К.А. (RU) Орликовский А.А. (RU) Руденко К.В. (RU) Семин Ю.Ф. (RU) Суханов Я.Н. (RU) | Патентообладатели: | Физико-технологический институт РАН (RU) |
Реферат | |
Использование: для контроля момента окончания травления в плазме ВЧ- и СВЧ-разряда в технологии изготовления полупроводниковых приборов в микроэлектронике и наноэлектронике. Сущность изобретения: для контроля в реальном времени момента окончания плазмохимического травления слоев микро- и наноэлектронных структур выполняется измерение и обработка модулированного сигнала оптической эмиссии плазмы на характеристической длине волны частицы-реагента или частицы-продукта поверхностной реакции, интенсив
|