SU 1597027 A1, 20.02.2000. SU 1584645 A1, 20.02.2000. US 7071067 B1, 04.07.2006. US 6362051 B1, 26.03.2002. GB 1483888 A, 24.08.1977. JP 1189913 A, 31.07.1989.
Имя заявителя:
Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х.М. Бербекова (RU)
Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х.М. Бербекова (RU)
Реферат
Использование: в технологии производства полупроводниковых приборов. Технический результат изобретения - снижение плотности дефектов в полупроводниковых приборах, обеспечивающее технологичность, улучшение параметров, повышение надежности и увеличение процента выхода годных. Сущность изобретения: в способе изготовления полупроводникового прибора скрытый изолирующий слой формируют из нитрида кремния имплантацией N2 в кремниевую подложку при температуре 550-650°С с энергией 140-160 кэВ и дозе 7,5·1017 см-2, с последующим отжигом при температуре 1200°С в атмосфере аргона в течение 2-4 час. 1 табл.