Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


ПОЛЕВОЙ ТРАНЗИСТОР

Номер публикации патента: 2065230

Вид документа: C1 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 93036703 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H01L029/80    
Аналоги изобретения: 1. Hrony J.S., Taylor G.W. Modeliny of on. Jon - Jmplanted JGFET, JEGE Trans. El.Dev. 2. Tatsuhiko F. et all. Meial Insulatorp - Superconductor Field Effect Transistor using SrTiO<SB>3</SB> / JBa<SB>2</SB>Cu<SB>3</SB>O, Heteroehitaxial. Jananese Journ. Appl. phys.-V.31/1992, p. 612 - 615. 

Имя заявителя: Физико-технический институт им.А.Ф.Иоффе РАН 
Изобретатели: Грехов И.В. 
Патентообладатели: Физико-технический институт им.А.Ф.Иоффе РАН 

Реферат


Использование: в криоэлектронике при создании сверхпроводниковых интегральных схем. Сущность изобретения: полевой транзистор содержит монокристаллическую подложку, канал из сверхпроводящего материала, слой диэлектрического материала, два буферных слоя, дополнительные диэлектрический слой и затвор. Буферные слои выполнены из материала с кристаллической решеткой, одинаковой с решеткой материала канала и нормальным характером проводимости. Буферные слои расположены по обе стороны от канала, каждый слой из диэлектрического материала расположен на буферном слое, дополнительный затвор выполнен из сверхпроводящего материала и расположен между подложкой и дополнительным диэлектрическим слоем. 1 ил.


Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"