На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ ДЕТЕКТОР ЗАРЯЖЕННЫХ ЧАСТИЦ НА ОСНОВЕ АРСЕНИДА ГАЛЛИЯ | |
Номер публикации патента: 2097874 | |
Редакция МПК: | 6 | Основные коды МПК: | H01L031/115 | Аналоги изобретения: | Абрамов А.И. Основы экспериментальных методов ядерной физики. - М.: Атомиздат, 1977, с. 206 - 207. S.P. Beamont et al. Gallium Arsenide Microstrip Detectors for Charged Particles. Preprint CERN - PPE/92-51, 1992, p.4. |
Имя заявителя: | Институт ядерных исследований РАН | Изобретатели: | Болотов В.Н. Постоев В.Е. Филатов О.Н. | Патентообладатели: | Государственный научный центр РФ Институт ядерных исследований РАН |
Реферат | |
Использование: полупроводниковое и ядерное приборостроение. Сущность изобретения в полупроводниковом детекторе заряженных частиц на основе арсенида галлия, содержащем подложку из арсенида галлия, на противоположных сторонах которой выполнены слои из материалов n+ и p+ типов проводимости и металлические электроды, ориентация кристалла арсенида галлия выбрана (100), поверх слоя из материала n+ типа проводимости сформирован дополнительный слой из материала с относительным изменением параметров решетки da/a большим, чем у подложки, а слой из материала p+ проводимости выполнен из материала с относительным изменением параметров решетки меньшим, чем у подложки, причем толщины и состав дополнительного слоя и слоя из материала p+ типа проводимости выбраны таким образом, чтобы механические напряжения в подложке не превышали критического значения, выше которого образуются дислокации несоответствия. В качестве материала дополнительного слоя поверх слоя из материала n+ типа проводимости может быть использован материал с относительным изменением параметров решетки dа/а = +(1-5)·10-4. В качестве материала дополнительного слоя поверх слоя из материала n+ типа проводимости использован твердый раствор InxGa1-xAs с 0+ типа проводимости использован углерод в качестве акцепторной примеси с концентрацией NA = 1019см-3. В слое из материала n+ типа проводимости в качестве донорной смеси использован германий с концентрацией Nd = 1018см-3. 3 з.п. ф-лы, 1 ил.
|