|
На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента
Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»
| СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МИКРОСХЕМЫ |  |
Номер публикации патента: 1556521 |  |
| Редакция МПК: | 6 | | Основные коды МПК: | H05K003/00 | | Аналоги изобретения: | Патент Японии N 55-17507, кл. H 05 K 3/00, 1980. Авторское свидетельство СССР N 1223826, кл. H 05 K 3/00, 1986. |
| Имя заявителя: | | | Изобретатели: | Корпухин А.С.
Жуков А.А.
Полищук Б. |
Реферат | |
Изобретение позволяет улучшить качество микросхемы в результате улучшения физико-технологических характеристик гибкого полиимидного основания, изготавливаемого на технологической подложке из пластины кремния со слоем окисла. Способ изготовления микросхем включает нанесение полиимидного лака на пластину кремния в два этапа: первую дозу лака наносят центрифугированием, а затем с выдержкой не более 5 с на неподвижную подложку наносят вторую дозу лака поливом и выдерживают при комнатной температуре до растекания лака по всей поверхности подложки, после чего проводят сушку и полимеризацию лака. На полученном основании с помощью вакуумного напыления слоев и фотолитографии формируют тонкопленочную схему, после чего пластину кремния удаляют, стравливая окисел кремния плавиковой кислотой .
|
Поиск патентов
Получить полное описание патента