RU 2161382 С2, 27.12.2000. US 2002-041009 A1, 11.04.2002. RU 2214075 C2, 10.10.2003. US 6284072 B1, 04.09.2001.
Имя заявителя:
ОВД КИНЕГРАМ АГ (CH)
Изобретатели:
ШИЛЛИНГ Андреас (CH) ТОМПКИН Уэйн Роберт (CH)
Патентообладатели:
ОВД КИНЕГРАМ АГ (CH)
Приоритетные данные:
30.08.2004 DE 102004042111.0
Реферат
Изобретение относится к многослойному элементу, имеющему реплицируемый лаковый слой, в котором сформирована рельефная структура и который снабжен электропроводящим покрытием. Техническим результатом являются небольшие затраты, высокая точность изготовления структурированных электропроводящих покрытий с высоким разрешением многослойного элемента. В соответствии с настоящим изобретением предложен многослойный элемент (11, 12) с реплицируемым лаковым слоем (22). Первая рельефная структура (25, 125, 65) сформирована в реплицируемом лаковом слое (22) в плоскости, расположенной в осях х и у координат, в первой области многослойного элемента, при этом на реплицируемый лаковый слой (22) в первой области многослойного элемента (11, 12) и в соседней второй области многослойного элемента (11, 12) нанесено электропроводящее покрытие (23l, 23n, 123n) с постоянной плотностью по поверхности. Первая рельефная структура (25, 125, 65) является структурой с большим отношением глубины к ширине отдельных структурных элементов, в частности с отношением глубины к ширине >2. По всей или почти по всей глубине рельефной структуры проходит, по меньшей мере, вертикальная или почти вертикальная боковая грань, которая снижает или предотвращает электрическую проводимость покрытия. 6 н. и 17 з.п. ф-лы, 7 ил.
Поиск патентов
Получить полное описание патента