Промышленная Сибирь Ярмарка Сибири Промышленность СФО Электронные торги НОУ-ХАУ Электронные магазины Карта сайта
 
Ника
Ника
 

Поиск патентов

Как искать?
Реферат
Название
Публикация
Регистрационный номер
Имя заявителя
Имя изобретателя
Имя патентообладателя

    





Оформить заказ и задать интересующие Вас вопросы Вы можете напрямую c 6-00 до 14-30 по московскому времени кроме сб, вс. whatsapp 8-950-950-9888

На данной странице представлена ознакомительная часть выбранного Вами патента

Для получения более подробной информации о патенте (полное описание, формула изобретения и т.д.) Вам необходимо сделать заказ. Нажмите на «Корзину»


СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МИКРОСХЕМ

Номер публикации патента: 2384027

Вид документа: C2 
Страна публикации: RU 
Рег. номер заявки: 2008106682/09 
  Сделать заказПолучить полное описание патента

Редакция МПК: 
Основные коды МПК: H05K003/12    
Аналоги изобретения: RU 2025058 C1, 15.12.1994. SU 1565338 A1, 27.02.1996. SU 1443781 A, 16.03.1987. SU 1056484 A2, 31.05.1982. GB 1461031 A, 13.01.1977. JP 2002111211 A, 12.04.2002. DE 19961537 A1, 29.06.2000. JP 58225657 A, 27.12.1983. JP 62218939 A, 26.09.1987. 

Имя заявителя: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Новосибирский государственный технический университет" (RU) 
Изобретатели: Борыняк Леонид Александрович (RU)
Непочатов Юрий Кондратьевич (RU) 
Патентообладатели: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Новосибирский государственный технический университет" (RU) 

Реферат


Изобретение относится к области электронной техники, в частности к технологии изготовления микросхем на металлических подложках, и может быть использовано на предприятиях радио- и электронной промышленности. Техническим результатом изобретения является улучшение термостойкости многослойной структуры, исключение растрескивания и откалывания керамического слоя от металлической подложки, снижение пористости слоя керамики и повышение надежности работы микросхем. Способ включает нанесение на металлическую подложку путем плазменного напыления подслой из порошка интерметаллического соединения никеля с алюминием с размером частиц 20-70 мкм, напыление на него слоя керамики из порошка окиси алюминия с алюмосиликатным стеклом, шлифование слоя и нанесение слоя боросиликатного стекла, после чего поверхность керамического слоя подвергают пропитке стеклом и глазурованию. Формирование металлизированного рисунка микросхем проводят по тонкопленочной технологии с получением минимального размера элемента 10 мкм. 7 з.п. ф-лы, 1 ил., 2 табл.

Дирекция сайта "Промышленная Сибирь"
Россия, г.Омск, ул.Учебная, 199-Б, к.408А
Сайт открыт 01.11.2000
© 2000-2018 Промышленная Сибирь
Разработка дизайна сайта:
Дизайн-студия "RayStudio"